gather4_po_c (sm5 - asm)
行為與 gather4_po相同，但會在紋素上執行比較，類似于 sample_c。
| gather4_po_c dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcOffset[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler[.r]， srcReferenceValue |
|---|
| 項目 | 描述 |
|---|---|
|
dest |
[in]作業結果的位址。 |
|
srcAddress |
[in]一組紋理座標。 |
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srcOffset |
[in]位移。 |
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srcResource |
[in]紋理暫存器。 |
|
srcSampler |
[in]取樣器暫存器。 |
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srcReferenceValue |
[in]已選取單一元件。 |
備註
如需srcReferenceValue與每個擷取紋素的比較方式的相關資訊，請參閱sample_c。 不同于 sample_c， gather4_po_c 會傳回每個比較結果，而不是篩選結果。
此指令與 gather4_po一樣，僅適用于 2D 紋理。 這與 gather4_c不同，這也適用于 TextureCubes。
對於具有 float32 元件的格式，如果擷取的值已正規化或 +-INF，則會在未變更的比較作業中使用。 NaN 用於比較作業中做為 NaN，但 NaN 的確切位標記法可能會變更。 Denorms 會排清為零，以進入比較。 對於 TextureCubes，遺漏第 4 個材質的某些合成必須在角落髮生，因此不會套用針對合成材質傳回未變更的位概念。
gather4_po_c支援的格式與sample_c支援的格式相同。 這些是單一元件格式，因此 為 。srcSampler 上的 R，而不是任意的 Swizzle。
未 系結資源上的gather4_po_c會傳回 0。
使用這個方法來篩選陰影圖。
本指示適用于下列著色器階段：
| 頂點 | 船體 | 網域 | 幾何形狀 | 像素 | 計算 |
|---|---|---|---|---|---|
| X | X | X | X | X | X |
最小著色器模型
下列著色器模型支援此指示：
| 著色器模型 | 支援 |
|---|---|
| 著色器模型 5 | 是 |
| 著色器模型 4.1 | 否 |
| 著色器模型 4 | 否 |
| 著色器模型 3 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 2 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 1 (DirectX HLSL) | 否 |