sample_l (sm4 - asm)
使用指定的地址和给定采样器标识的筛选模式从指定的元素/纹理中采样数据。
sample_l[_aoffimmi (u,v,w) ] dest[.mask], srcAddress[.swizzle], srcResource[.swizzle], srcSampler, srcLOD.select_component |
---|
项 | 说明 |
---|---|
dest |
[in]操作结果的地址。 |
srcAddress |
[in]一组纹理坐标。 有关详细信息,请参阅 示例 说明。 |
srcResource |
[in]纹理寄存器。 有关详细信息,请参阅 示例 说明。 |
srcSampler |
[in]采样器寄存器。 有关详细信息,请参阅 示例 说明。 |
srcLOD |
[in]LOD。 |
备注
此指令与 示例相同,只不过 LOD 由应用程序直接作为标量值提供,表示没有各向异性。 此说明适用于所有可长距离着色器阶段。
sample_l 使用 srcLOD 将纹理采样为 LOD。 如果 LOD 值为 <= 0,则选择 (最大映射) 零,并基于筛选模式 () 应用放大滤镜(如果适用)。 由于 srcLOD 是浮点值,因此如果缩小筛选器为 LINEAR 或具有各向异性筛选,则使用小数值在两个 mip 级别之间内插。
sample_l 忽略地址导数,因此筛选行为纯粹是各向同性的。 由于忽略导数,各向异性筛选的行为与各向同性筛选一样。
采样器状态为 MIPLODBIAS 和 MAX/MINMIPLEVEL。
在像素着色器中使用时, sample_l 表示 LOD 的选择是按像素选择的,不会受到相邻像素的影响,例如在同一 2x2 标记中。
从未绑定任何内容的输入槽提取将为所有组件返回 0。
此指令适用于以下着色器阶段:
顶点着色器 | 几何着色器 | 像素着色器 |
---|---|---|
x | X | x |
最小着色器模型
以下着色器模型中支持此函数。
着色器模型 | 支持 |
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着色器模型 5 | 是 |
着色器模型 4.1 | 是 |
着色器模型 4 | 是 |
着色器模型 3 (DirectX HLSL) | 否 |
着色器模型 2 (DirectX HLSL) | 否 |
着色器模型 1 (DirectX HLSL) | 否 |